在芯片技术的研发当中，全球最为顶尖的技术，就是美国的台积电和三星的芯片制造工厂，这两所世界芯片大型工厂，垄断了芯片市场上95% 的订单。芯片需求，对于眼下的中国市场来说，是极为需要的。

　　对于我国芯片技术的研发来说，最为热议的就是华为跨领域研发芯片技术，到底何时才能有历史性的突破，目前来说依然是一个谜。但在前不久，中微传来的好消息，让荷兰专家：中国这项科技突破技术封锁，美韩禁令沦为“笑柄”。

　　提到芯片技术，就会立刻想到ASML已经研发出的EUV光刻机技术。也是在前不久，ASML实现了对于中国的三次承诺，运送了7台DUV光刻机，对于华为现在的芯片研发当中，同样是一次有效的助力，在芯片的研发当中，有总好过没有。

　　中微这一次传来的好消息，我国已经攻克了光刻机技术领域，其实是以光刻机技术并肩科技的蚀刻机研发领域。蚀刻机技术在光刻机上的作用，是对于芯片制造过程中的打磨雕琢的过程。如果光刻机没有这些技术作为辅助，就不可能生产出高端的芯片出来。

　　这也是为何中微刚刚研发成功，就连夜官宣的原因。现在这项技术的研发成功之后吗，已经成为韩国和德国争相下单的新技术，这一次美韩禁令沦为“笑柄”，在“禁止”ASML不能将EUV光刻机卖给中国，只能用较次的DUV光刻机。

　　蚀刻机技术的研发成功，对于我在今后光刻机技术的研发上，有着十分大的作用，并且这会是我国芯片研发上，又一大助力。虽然现在并没有实现芯片技术和光刻机技术，真正意义上的研发成功的消息的，但在未来，相信“国芯”和我国光刻机技会传来好消息。